अन्तर्राष्ट्रीय

चीन ने रचा इतिहास: पहली बार संयुक्त राष्ट्र की इनोवेशन टॉप-10 लिस्ट में बनाईं जगह

जिनेवा: चीन ने वैश्विक इनोवेशन के क्षेत्र में एक ऐतिहासिक उपलब्धि हासिल की है। संयुक्त राष्ट्र की विश्व बौद्धिक संपदा संगठन (WIPO) द्वारा जारी ग्लोबल इनोवेशन इंडेक्स (GII) 2025 में चीन पहली बार टॉप-10 देशों की सूची में शामिल हो गया है। इस लिस्ट से जर्मनी बाहर हो गया, जो पहले इस पोजिशन पर था। रिपोर्ट मंगलवार (16 सितंबर 2025) को जारी हुई, जिसमें 139 देशों का मूल्यांकन 78 संकेतकों के आधार पर किया गया। स्विट्जरलैंड ने लगातार 14वें साल टॉप स्पॉट बरकरार रखा, उसके बाद स्वीडन और अमेरिका हैं।

चीन 10वें स्थान पर पहुंचा, जो उसके तेजी से बढ़ते रिसर्च एंड डेवलपमेंट (R&D) निवेश का नतीजा है। रिपोर्ट के मुताबिक, चीन जल्द ही दुनिया का सबसे बड़ा R&D खर्च करने वाला देश बन सकता है। बीजिंग की कंपनियां निजी क्षेत्र में फंडिंग के अंतर को तेजी से भर रही हैं। 2024 में अंतरराष्ट्रीय पेटेंट आवेदनों का लगभग एक चौथाई चीन से आया, जो इसे सबसे बड़ा स्रोत बनाता है। वहीं, अमेरिका, जापान और जर्मनी जैसे देशों में पेटेंट आवेदनों में मामूली गिरावट आई। WIPO के डायरेक्टर जनरल डारेन टैंग ने कहा, “चीन की प्रगति प्रभावशाली है। यह दिखाता है कि कैसे निवेश इनोवेशन को बढ़ावा देता है।”

टॉप-10 में चीन के अलावा साउथ कोरिया (4), सिंगापुर (5), ब्रिटेन (6), फिनलैंड (7), नीदरलैंड्स (8) और डेनमार्क (9) शामिल हैं। जर्मनी अब 11वें स्थान पर खिसक गया। टैंग ने जर्मनी के लिए चुनौती बताई कि वह अपनी मजबूत औद्योगिक इनोवेशन के अलावा डिजिटल इनोवेशन का हब कैसे बने। रिपोर्ट ने वैश्विक इनोवेशन पर चिंता जताई है। R&D ग्रोथ इस साल 2.3% तक गिरकर 2010 के बाद सबसे कम स्तर पर पहुंच गई है। वैश्विक निवेश में कमी आ रही है, जो इनोवेशन को प्रभावित कर रही है।

यह उपलब्धि चीन की ‘मेड इन चाइना 2025’ जैसी पहलों का परिणाम है, जो हाई-टेक इंडस्ट्रीज पर फोकस करती हैं। विशेषज्ञों का कहना है कि चीन का यह कदम एशिया को इनोवेशन का नया केंद्र बना सकता है। भारत इस लिस्ट में 40वें स्थान पर है, जो पिछले साल से सुधार है। WIPO ने सभी देशों से R&D निवेश बढ़ाने की अपील की है। यह रिपोर्ट वैश्विक अर्थव्यवस्था के लिए एक संकेत है कि इनोवेशन अब एशिया की ओर शिफ्ट हो रहा है।

Leave a Reply

Your email address will not be published. Required fields are marked *